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      鈦酸鍶薄膜的制備與應(yīng)用研究進(jìn)展介紹了鈦酸鍶(STO)薄膜的五種制備方法(等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積、射頻磁控濺射、金屬有機(jī)化 學(xué)氣相沉積、脈沖激光沉積、溶膠–凝膠)及 STO薄膜在電容-電壓敏雙功能材料、CMOS器件、氧敏材料、PZT 鐵電薄膜電極材料等方面的應(yīng)用的研究進(jìn)展。提出了需進(jìn)一步開(kāi)展的研究課題如:晶粒晶界控制、界面控制、 漏電導(dǎo)機(jī)制、疲勞機(jī)制、非線(xiàn)性效應(yīng)及大面積高質(zhì)量薄膜的制備技術(shù)等。

      SrTiO3 是一種立方鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的絕緣體、鐵具有良好的介電性、熱穩(wěn)定性、低損耗和介電可調(diào)性, 可用來(lái)制備高密度、大容量的 FRAM和 DRAM設(shè)備, 薄膜材料的襯底和緩沖, 層電容器等許多重要應(yīng)用。例如電容-壓敏復(fù)合功能的 SrTiO 因而研究人員對(duì)STO薄 制備、組成、結(jié)構(gòu)、性能及應(yīng)用等方面進(jìn)行了大量研究, 并取得了一些令人振奮的進(jìn)展。